貳、氣態分子污染（AMCs）處理技術

1. 適合潔淨室 PPB 等級厚度親水性 AMCs 處理需求。

2. 以去離子水或市水做為吸收液，不需要任何化學藥品的添加，符合
．綠色環保科技的國際趨勢。

3. 使用經驗非常豐富，包括台積電、高通光電及昆山中辰矽晶等都是
．採用此技術；對於 NH3、HF、H2SO4、H3PO4 及 HNO3 等 AMCs
．都有很好的處理效率。

4. 對於外氣中 ≦1μm 微粒（Fine Prticles）也有很好的處理效率
．（≧99%）。

5. 應用領域包括 IC 半導體產業（次微米及奈米制程）、TFT-LCD 產業
．及生技產業 etc.

參、酸性煙霧（白煙）捕集裝置（Acid Fume Collection System）

1.  適合酸性（硫酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸、氯化銨及氟化銨）煙霧處理。

2. 對於無機酸性煙霧可以不要添加任何化學品調 整指令引數；但是，疏水性的煙霧則
．必須加入適合的化學添加劑（如氧化劑、還原劑 etc.）。

3. 對於氫氟酸（HF）、鹽酸（HCl）、硫酸（H2SO4）、硝酸（HNO3）、氯化銨
．（NH4Cl）及氟化銨（NH4F） 等，都有很好的去除效率。

肆、臭味（催化）氧化濕式洗滌塔
．（Odor Xxidative Wet Scrubber System）

1. 適合臭味（醋酸、硫化氫、甲硫醇、乙硫醇及二甲基硫等）之濕式氧化洗滌處理
．系統。

2. 以無機酸鹽類為主要成分的氧化劑，不會對後端廢水處理產生額外的負擔（硫化物
．、雙氧水、臭氧及氯氣等）〪

3. 填充料的選擇可以是傳統的拉西環、結構性的填充料或是混合性設計。

4. 應用範疇為制程排氣及廢水場生物處理所產生的異味。

伍、氮氧化物（NOx）濕式催化氧化處理系統

1. 適合高濃度硝酸蝕刻金屬（或半金屬）時，所產生的氮氧化物（NOx，黃煙）處理
．技術。

2. 以無機酸鹽類為主要成分的氧化劑，不會對後端廢水處理產生額外的負擔（硫化物
．、雙氧水、臭氧及氯氣等）。

3. 應用範疇為半導體產業、TFT-LCD 面板產業酸蝕刻制程，以及矽基太陽能電池產業
．、制絨制程廢氣（NOx）處理。

4. 使用經驗非常豐富，包括中美矽晶、欣揚科技 ( 中國 ) 及友達光電 ( 矽基太陽能廠 )
．等都是採用此技術；對於氮氧化物（NOx）有很好的處理效率。

陸、氣特殊設計濕式洗滌塔（HF、NH3 etc.）
．（Special Design Wet Scrubber System）

1. 適合中高濃度特殊廢氣（氫氟酸、氨氣 etc.）的處理設備。

2. 金字塔型結構性的填充料 ( Structure Packing ) 有較大的比表面積 ( ≧128 m²/m³ )
．與傳統的 拉西環填充料相較，可以降低液氣比，提升濕式洗滌塔的處理效率。
．
3. 對於親水性佳的無機酸鹼物質，即使是低濃度狀態，以濕膜吸收技術同樣具有良好
．處理效率。

4. 特殊無機酸鹼廢氣處理效率 ≧95%。